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Wissenschaftliche Ausstattung

Folgende apparative Ausstattung steht der Arbeitsgruppe und im Nano+Structuring-Center zur Verfügung:

Lithographie:

Belichter "EVG 620"
Spin- und Sprühbe- lacker "EVG 101"
Elektkronen- strahlschreiber Raith, eLiNe
mit EDX

Subtraktive Techniken:

Ionenstrahlätzanlage (RIBE) "Roth & Rau, IonSys500"
Plasmaätzanlage ECR-RIE "Roth & Rau MicroSys 350
Nassätzbänke

Additive Techniken:

Oxidationsofen PE0603 von ATV
PECVD Oxford PlamaLap 80
Elektronen- strahl- Aufdampf- anlage Pfeiffer Classics 500L
Parylene PVD- Aufdampfanlage

Analytik:

Konfokales Mikroskop WiTecAlpha- SNOM
4-Punktmessplatz
3 optische Mikroskope für die Waferinspektion Zeiss Axioskop 2 MAT
Oberflächen-Profilometer Dektak 8

Sonstiges:

Drahtbonder "TPT, HB12"
Substratbonder "EVG 501"
Critical Point Dryer CPD 030
Sputter Machine Balzers Union CSD040
Bipotentiostat (Gramy)
HeterodynInterferometer
Wafersäge Disco DAD321