Rudolf-Jaeckel-Preis

In Anerkennung der großen Verdienste von Professor Dr. Rudolf Jaeckel um die Vakuumphysik und andere von der DVG betreuten Gebiete, verleiht die DVG seit 2006 jährlich den „Rudolf-Jaeckel–Preis der Deutschen Vakuumgesellschaft“. Die DVG möchte damit das Lebenswerk von Professor Rudolf Jaeckel würdigen und das Andenken an ihn bewahren. Ein Grund für die Namensgebung des Preises ist nicht zuletzt auch, dass Professor Jaeckel aktiv an der Gründung der Vorgängergesellschaft der DVG mitgewirkt hat.

Auschreibung

Die DVG verleiht jährlich den Rudolf-Jaeckel Preis für hervorragende Leistungen auf dem Gebiet der vakuumgestützten Wissenschaften. Es sollen vor allem langjährige und bahnbrechende Arbeiten zu den Grundlagen der von der DVG betreuten Gebiete und zu deren Anwendungen und Umsetzungen in der wissenschaftlichen und industriellen Praxis gewürdigt werden. Auch herausragende Leistungen zu einem aktuellen Thema können gewürdigt werden. Der Preis kann sowohl an eine Einzelperson (keine Altersbeschränkung) als auch an ein Team verliehen werden. Die Preisträger(innen) sollen vorwiegend aus dem deutschsprachigen Raum kommen.

Der Preis besteht aus einem Preisgeld von 1000,- Euro sowie einer Medaille nebst Urkunde.

Die Auswahl des Preisträgers oder der Preisträgerin obliegt einem Preiskomitee von 5 Personen, welche durch den Vorstandsrat der DVG berufen werden. Preisträgervorschläge sind an den Präsidenten der DVG zu richten. Eigenbewerbungen sind nicht möglich.

zur Person Rudolf-Jaeckel

In der Ausgabe der Vakuum in Forschung und Praxis erschien in der Ausgabe 2018-06 unter dem Serie "Pioniere der Vakuumtechnik" der nachfolgende Artikel. Er wurde verfasst von Dr. Wilfriede Fiedler (Vacom Vakuum Komponenten & Messtechnik GmbH, Großlöbichau)

Preiskomitee

Mitglieder des Preiskomitees

Prof. Schultz Ludwig (IFW Dresden) Vorsitzender

Prof. Dr. Martin Aeschliman (TU Kaiserslautern)
Prof. Dr. Dieter Bimberg (TU Berlin)
Dr. Bernd Schulte (AIXTRON SE)
Dr. Gerhard Voss (ehem. Leybold Vacuum GmbH)

Preisträger

2023

Dr. Karl Jousten

Alles für eine möglichst akkurate Vermessung des Nichts

Die Deutsche Vakuum-Gesellschaft – DVG e.V. hat den diesjährigen Rudolf- Jaeckel-Preisträger ausgewählt und ehrt Dr. Karl Jousten von der Physikalisch-Technischen Bundesanstalt in Berlin für seine herausragenden „grundlegenden Arbeiten im Bereich der Vakuum-Druckmessung“.

Die DVG verleiht in Anerkennung der großen Verdienste von Professor Dr. Rudolf Jaeckel seit 2006 jährlich den Rudolf-Jaeckel Preis für hervorragende Leistungen auf dem Gebiet der vakuumbasierten Wissenschaften und Technologien an einzelne Wissenschaftler oder Wissenschaftlerinnen oder F&E-Teams, vorwiegend aus dem deutschsprachigen Raum. Der Preis besteht aus einem Preisgeld von 1000 € sowie einer massiven Silbermedaille nebst Urkunde.

Die anspruchsvolle und zeitaufwändige Nominierungsarbeit leistete das durch den Vorstandsrat der DVG berufene fünfköpfige Preiskomitee, bestehend aus Prof. Ludwig Schultz (Vorsitzender), Prof. Dr. Martin Aeschliman, Prof. Dr. Dieter Bimberg, Dr. Bernd Schulte und Dr. Gerhard Voss.

Die Preisverleihung findet im Rahmen der internationalen Tagung V2023 – Vacuum & Plasma am Dienstag, 19. September 2023, ab 17:30 Uhr im International Congress Center Dresden statt. Alle DVG-Mitglieder sind auch ohne Besuch der Tagung zur Preisverleihung eingeladen und dürfen im Anschluss an diese mit Spannung den Preisträgervortrag erwarten: Dr. Karl Jousten präsentiert seine Arbeiten unter dem Titel Nothing but accurate.

Der Welt des Vakuums ist Karl Jousten, gebürtig in Lörrach in Südbaden, gut bekannt – nicht nur durch seine rund 100 häufig zitierten Veröffentlichungen, seine Patente, zahlreichen Buchbeiträge und über 100 weltweit gehaltenen Vorträge. Auch ist er der Herausgeber des in der Branche unentbehrlichen Standardwerks Handbuch Vakuumtechnik, das auch bereits ins Englische und Koreanische übersetzt wurde.

Zu Beginn Joustens wissenschaftlicher Laufbahn am Max-Planck-Institut für Kernphysik in Heidelberg stand die Anwendung der Rutherford-Rückstreuung mit Helium-Kernen zur Lokalisierung von Fremdatomen im Siliziumgitter im Vordergrund. Während seiner Promotion und darüber hinaus entwickelte er eine Gasfeldionisationsquelle (GFIS, gas field ion source) mit dem Ziel, eine möglichst große Brillanz dieser Ionenquelle zu erreichen, damit diese Quelle als Nanoionenstrahl eingesetzt werden konnte. Diese Ionenquelle wurde später erfolgreich in kommerziellen Produkten für fokussierte Ionenstrahlen („focused ion beam“) eingesetzt. Im Anschluss entwickelte Jousten auch eine leistungsstarke Ionenoptik für diese Quelle. Das Alternativprodukt, die Flüssigmetallionenquelle (LMIS, liquid metal ion source), beschäftigte ihn in seinem Postdoc-Jahr. Mit Hilfe eines auf die Flüssigmetallspitze fokussierten Lasers konnte er den Strom im MHz-Be-reich modulieren.

Mit seinem Eintritt in das Labor für Vakuumphysik der Physikalisch- Technischen Bundesanstalt (PTB) in Berlin stand für Karl Joustens weitere wissenschaftliche Zukunft die genaue Messung des „Nichts“ im Vordergrund. Zunächst ging es darum, die sogenannten Primärnormale für Vakuumdrücke und kleine Gasflüsse zu verstehen und ihre Unsicherheiten zu analysieren. Primärnormale sind Messeinrichtungen, bei denen eine physikalische Größe mit einem Größenwert und einer beigeordneten Unsicherheit realisiert wird. In solchen Primärnormalen werden mit Hilfe physikalischer Gesetze bestimmte Größen aus anderen Messgrößen berechnet (im Falle des Drucks zum Beispiel aus Kraft und Fläche). Primärnormale können nicht kalibriert werden, weil sie die physikalische Größe direkt auf das Internationale Einheitensystem (SI, Système international d’unités) „zurückführen“, sondern dienen der Kalibrierung von Messgeräten. Die Richtigkeit von Primärnormalen kann nur durch Vergleich mit anderen Primärnormalen ermittelt werden. Da diese nicht transportabel sind, muss dies bei Vakuumprimärnormalen über die Kalibrierung von Vakuummessgeräten geschehen. Diese Vakuummessgeräte dienen so als Transfernormale, um die Skalen verschiedener Normale zu vergleichen. Daher ist es für einen Vakuummetrologen wichtig, sich auch mit der Charakterisierung der Va kuummessgeräte zu beschäftigen und diese immerwährend zu verbessern. Vakuummessgeräte, die als Transfernormale dienen, müssen langzeit- und transportstabil sein sowie eine geringe Messunsicherheit aufweisen. Mit der Neuentwicklung eines Ionisationsvakuummeters konnte dabei jüngst eine deutliche Verbesserung erzielt werden.

Die Benchmark im Vakuumbereich ist einerseits die Breite der Druckskala, aber vor allem die Unsicherheit, mit der der jeweilige Vakuumdruck dargestellt werden kann. Um diese Unsicherheiten zu reduzieren, muss auf dem Gebiet der Ausgasung, bei der Simulation der Dichteverteilung und bei technologischen Detailfragen intensiv geforscht werden; auch müssen die Auswerteverfahren optimiert werden. Bereits in den 1990er Jahren wurde begonnen, optische Methoden zur Dichte- beziehungsweise Vakuumdruckbestimmung anzuwenden – zunächst mit Laserabsorptionsspektroskopie, seit 2017 auch mit Refraktometrie. Die spannende Entwicklung von Vakuumprimärnormalen mittels optischer Methoden steht zurzeit im Vordergrund der internationalen Forschung für die Vakuummetrologie.

Da die Vakuumtechnik eine recht ausgereifte Technologie geworden ist und kaum noch universitär gelehrt wird (der letzte noch verbliebene universitäre Lehrstuhl für Vakuumphysik wurde 2005 nicht mehr neu besetzt), ist zu beobachten, dass die Lücke zwischen dem theoretisch abrufbaren Wissen und den tatsächlich bei Anwendern vorhandenen Kenntnissen zur Vakuumphysik und -technik immer größer wird. Hier konnte Karl Jousten durch die Veröffentlichung des Übersichtswerks Handbuch Vakuumtechnik und seine Arbeiten im Bereich der Normung gegensteuern. Anwendungen seiner Arbeiten finden sich in vielen hoch interessanten Forschungsfeldern, beispielsweise in den gigantischen Gravitationswellendetektoren, in der über den Helium-druck realisierten Tieftemperaturskala, in schnellen Vakuummessgeräten, in der Halbleiterindustrie sowie in der Entwicklung geeigneter Testlecks für industrielle Anwendungen. Um die in der Anwendung gemessenen Größen auf das SI zurückzuführen, baute Karl Jousten neue Kalibriersysteme für Partialdrücke und Ausgasraten auf und entwickelte Referenzausgasungsproben – alles für ein möglichst akkurat quanti-fizierbares Nichts.

Präsidium und Vorstandsrat der DVG freuen sich mit Herrn Dr. Karl Jousten und wünschen ihm für seine Zukunft weiterhin viel Erfolg und alles Gute im privaten und beruflichen Bereich.

2022

Photo: Oerlikon/Ellerson

Professor Dr. Jochen M. Schneider

Lehrstuhls für Werkstoffchemie an der Rheinisch-Westfälischen Technischen Hochschule RWTH Aachen

In Würdigung seiner herausragenden Leistungen auf den von der DVG betreuten Wissenschafts- und Technologiebereichen insbesondere für seine herausragenden wissenschaftlichen Beiträge und Pionierarbeiten auf dem Gebiet der Computer-basierten Modellierungen für die PVD-Schichtentwicklung.

Die Preisverleihung des Rudolf-Jaeckel-Preises 2022 findet am Dienstag, dem 13.9.2022, ab 16:00 Uhr im Rahmen der 18. International Conference
on Plasma Surface Engineering PSE in der Carl-Zeiss Halle des Messecenters Erfurt (12.–15.9.2022, https://www.pse-conferences.net/pse2022.html) statt. In seinem Preisträgervortrag mit dem Titel „Quantum mechanically guided coating materials design“ gibt der neue Preisträger Einblicke in seine Forschungsarbeiten und zeigt dabei sicherlich auch welche Bedeutung der Vakuumtechnik für seinen wissenschaftlichen Erfolg hat. Im Rahmen der speziellen Rudolf-Jaeckel-Preis-Session findet neben der eigentlichen Preisverleihung und der vorangehenden Preisträgerlaudation durch den DVG Präsidenten, apl. Prof. Dr. Sven Ulrich (Karlsruher Institut für Technologie), zusätzlich auch noch der eingeladene Vortrag von Prof. Dr. Andre Anders (Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung (IOM) – Leipzig) mit dem Titel „Quality of vacuum: A decisive factor for thin films and coatings deposited by plasma-based methods“ statt. Hier wird Prof. Anders das Konzept der „Vakuumqualität“ sowohl im Kontext des Restdrucks als auch der Abscheiderate erläutert. Ein kleiner Ausflug zu einigen Experimenten in der reichen Geschichte der Beschichtungstechnologie hilft, die Errungenschaften der Vakuumtechnologien in diesem Anwendungsfeld zu würdigen.

Jochen M. Schneider, Jahrgang 1969, studierte zunächst Ingenieurswissenschaften in Deutschland, England und den USA und promovierte 1998 in Oberflächenphysik an der britischen University of Hull. Anschließend war er als Gastwissenschaftler am kalifornischen Lawrence Berkeley National Laboratory und als Assistenzprofessor und Dozent an der Universität Linköping Schweden, tätig. In 2002 wurde er zum Professor am Lehrstuhl für Werkstoffchemie der RWTH Aachen berufen. Zu seinen Forschungsschwerpunkten zählen insbesondere das quantenmechanisch geführte Design von Materialien mit maßgeschneiderten elastischen Eigenschaften, Phasenstabilität und Transporteigenschaften sowie die Dünnschicht-Materialwissenschaften im Allgemeinen. Schneider ist Autor zahlreicher renommierter Veröffentlichungen, wie über 300 ISI gelistete Publikationen mit rund 7.600 Zitierungen (Stand November 2019) zeigen. Zu dem ist Prof. Schneider Mitglied in Editorial-Boards namhafter Wissenschaftszeitschriften wie z. B. Surface and Coatings Technology (vorher Plasma Processes and Plasma Chemistry) – Elsevier, Scientific Reports – Nature Publishing Group und Journal of Applied Physics – American Institute of Physics. In seiner beeindruckenden wissenschaftlichen Laufbahn wurden Jochen Schneider zahlreiche Auszeichnungen verliehen. So wurde er 2001 vom Präsidenten der Alexander von Humboldt-Stiftung mit dem Sofja Kovalevskaja-Preis in Würdigung herausragender Leistungen in der Forschung ausgezeichnet. 2013 wurde Schneider zum Fellow der American Vacuum Society (AVS), im September 2015 zum „Max-Planck-Fellow“ am Max-Planck-Institut für Eisenforschung, Düsseldorf, und ebenfalls 2015 zum RWTH Fellow ernannt.

2021

Photo: Universität Leipzig/Swen Reichhold

Prof. Dr. Oliver Ambacher

Institut für Nachhaltige Technische Systeme, Albert-Ludwigs-Universität Freiburg

In Würdigung seiner herausragenden Leistungen auf den von der DVG betreuten Wissenschafts- und Technologiebereichen insbesondere für seine für seine bahnbrechenden Beiträge zum Fortschritt leistungselektronischer Systeme durch die Entwicklung von Bauelementen aus neuartigen Halbleiterstrukturen basierend auf Materialien mit großer Bandlücke.

Die Preisverleihung findet am Dienstag 12. Oktober um 17:15 Uhr auf der V2021 im Dresden (12.-14.10.2021, https://www.efds.org/die-v/) statt. Nach der Preisverleihung stellt der neue Preisträger in seinem Preisträgervortrag (https://www.efds.org/v2021_specials/) mit dem Titel „Entwicklung energieeffizienter leistungselektronischer Systeme basierend auf Materialien mit großer Bandlücke“ unter anderem auch die Bedeutung der Vakuumtechnik für seinen wissenschaftlichen Erfolg dar.

Experte auf dem Gebiet der energieeffizienten Elektronik

Oliver Ambacher erhielt 1993 den Titel eines Doktors der Naturwissenschaften an der Technischen Universität München. 1995 konzentrierte er seine Forschungsarbeiten auf Galliumnitrid-basierte (GaN) elektronische und optoelektronische Bauelemente. 1998 erhielt er als Stipendiat der Alexander von Humboldt-Stiftung die Möglichkeit, seine Arbeiten auf dem Gebiet der GaN-Transistoren für Hochfrequenz-Leistungsverstärker an der Cornell University (USA) zu vertiefen. Im Anschluss an seine Habilitation erfolgte im Jahr 2002 die Ernennung zum Professor für Nanotechnologie und 2004 die Wahl zum Direktor des Zentrums für Mikro- und Nanotechnologien an der Technischen Universität Ilmenau. Von 2007 bis 2016 war Oliver Ambacher bereits Leiter des Fraunhofer-Instituts für Angewandte Festkörperphysik. Im Jahr 2015 erhielt er in dieser Funktion den Karl Heinz Beckurts-Preis für die Entwicklung energieeffizienter Leistungsverstärker für die Mobilfunknetze der fünften Generation. Dieser Erfolg motivierte 2017 seinen Wechsel innerhalb der Albert-Ludwigs-Universität Freiburg von der Professur für Verbindungshalbleiter zum Lehrstuhl für Leistungselektronik am jüngst gegründeten Institut für Nachhaltige Technische Systeme. Die an der Universität Freiburg etablierten Forschungsarbeiten in den Bereichen der Leistungs- und Hochfrequenzelektronik können durch Ambachers Rückkehr an das Fraunhofer IAF optimal in besonders energieeffiziente elektronische Systeme und gemeinsam mit Partnern aus der Industrie in marktfähige Produkte transferiert werden.
Fraunhofer IAF in Freiburg
Das Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF zählt zu den führenden Forschungseinrichtungen auf dem Gebiet der Verbindungshalbleiter. Auf Basis dieser Halbleiter entwickelt es elektronische und optoelektronische Bauelemente sowie integrierte Schaltungen und Systeme. In einem 1000 m² großen Reinraum und weiteren 3000 m2 Laborfläche stehen Epitaxie- und Technologieanlagen sowie Messtechniken bereit, um Hochfrequenz-Schaltungen für die Kommunikationstechnik, Spannungswandler-Module für die Energietechnik, Infrarot- und UV-Detektoren für die Sicherheitstechnik sowie Infrarot-Lasersysteme für die Medizintechnik zu realisieren. Bedeutende Entwicklungen des Instituts sind lichtstarke weiße Leuchtdioden für die Beleuchtungstechnik, energieeffiziente Leistungsverstärker für die mobile Kommunikation und hochempfindliche Laser-Analysesysteme zur Überwachung der Trinkwasserqualität.

Energieverluste in Kommunikations- und Energiewandelnden Systemen reduzieren

Die energieeffiziente und damit nachhaltige Leistungselektronik steht vor einer revolutionären Entwicklung. Diese Entwicklung ist wirtschaftlich durch den steigenden Bedarf an kompakten, leistungselektronischen Systemen motiviert und wird wissenschaftlich durch die Erforschung neuartiger, nachhaltiger Materialien und innovativer Elektroniksysteme befördert. Um den notwendigen Fortschritt leistungselektronischer Systeme in Deutschland zu erzielen, werden bestehende physikalische Limitierungen der Silicium-Elektronik durch die Entwicklung von Bauelementen aus neuartigen Halbleiterstrukturen überwunden. Funktionale Halbleiterstrukturen basierend auf Materialien mit großer Bandlücke wie Scandiumaluminiumnitrid (ScAlN) und Galliumnitrid (GaN) besitzen hervorragende elektronische Eigenschaften für die zukünftige Leistungselektronik. Ihr Einsatz zur Prozessierung von leistungselektronischen Bauelementen ermöglicht eine erhebliche Verbesserung der elektrischen Eigenschaften von z.B. Spannungswandlern oder Mobilfunksendern. Das beginnt bei der erhöhten Leistungsdichte pro Bauteil und setzt sich mit größeren Schaltgeschwindigkeiten, höheren Betriebstemperaturen und niedrigeren Durchlasswiderständen, gleichbedeutend mit geringeren Schaltverlusten und kompakteren Systemen, fort

2020

Photo: Universität Leipzig/Swen Reichhold

Prof. Dr. Marius Grundmann

Leiter des Felix-Bloch-Institut für Festkörperphysik –Halbleiterphysik an der Universität Leipzig

In Würdigung seiner herausragenden Leistungen auf den von der DVG betreuten Wissenschafts- und Technologiebereichen insbesondere für seine bahnbrechenden Beiträge zur Entwicklung von neuartigen breitbandigen Halbleiterstrukturen und Demonstration von darauf basierenden Bauelementen 

Die Preisverleihung findet am Montag 7. September um 17:20 Uhr auf der Special PSE 2020 im Kongress-Zentrum der Messe Erfurt (07.-10.09.2020, https://www.pse-conferences.net/pse2020.html) statt. Nach der Preisverleihung stellt der neue Preisträger in seinem Preisträgervortrag unter anderem auch die Bedeutung der Vakuumtechnik für seinen wissenschaftlichen Erfolg dar.

Marius Grundmann hat in den letzten 20 Jahren neuartige Halbleiter-Verbindungen mit Vakuum-basierten Methoden als funktionale Dünnfilme und Nanostrukturen und darauf basierende Bauelemente hergestellt und charakterisiert. In den letzten Jahren hat er mittels gepulster Laserdeposition (PLD) das "ultra-widegap" (Al,Ga,In)2O3-Sesquioxid Halbleiter-System erforscht und seine verschiedenen Phasen, insbesondere die monokline beta-Phase [1], die trigonale alpha-Phase (wie Saphir) [2] und die orthorhombische kappa-Phase [3] kontrolliert und selektiv abgeschieden und untersucht. Diese Materialien versprechen Anwendungen in der "high-power" Elektronik und "deep-UV" Photonik. Von großer Hilfe dabei erwies sich die mittels radial segmentierter Targets entwickelte PLD-Methode, um auf einem einzigen Substrat eine ganze Legierungsreihe mittels eines lateralen chemischen Gradienten abzuscheiden [4] und so die Entwicklungszeit für ein Alloy-System um Größenordnungen zu reduzieren.

Mittels Sputter-Deposition bei Raumtemperatur hat Marius Grundmann amorphe Halbleiter-Dünnschichten aus ZnSnO und ZnON hergestellt, die 10 bis 100 mal höhere Elektronen-Beweglichkeiten aufweisen als amorphes Silizium. Er hat auf dieser Materialbasis neben grundlegenden physikalischen Untersuchungen zum Leitungsmechanismus neuartige Dünnfilm-Transistoren, Inverter und integrierte Schaltkreise hergestellt, die auf der Basis von MESFETs mit den geringsten Operationsspannungen funktionieren [5,6,7]. Von besonderer Bedeutung sind seine wegweisenden Arbeiten zur Sputter-Abscheidung von Kupferiodid-Dünnschichten, die eine einmalige Kombination aus hoher p-Leitfähigkeit und Transparenz im sichtbaren Spektralbereich aufweisen [8,9,10] und damit eine Dünnfilm-Elektronik mit komplementären Invertern eröffnen. Zu diesem Thema leitet Prof. Grundmann zurzeit eine DFG-geförderte Forschungsgruppe.

Marius Grundmann hat über 600 "international peer-review journal publications", >22000 Zitate und h=67 (https://publons.com/researcher/2738549/marius-grundmann/), google scholar: h=79

[1] Christian Kranert, Chris Sturm, Rüdiger Schmidt-Grund, Marius Grundmann
Raman Tensor Formalism for Optically Anisotropic Crystals
Phys. Rev. Lett. 116(12), 127401:1-5 (2016)

[2] M. Grundmann, M. Lorenz
Anisotropic Strain Relaxation Through Prismatic and Basal Slip in α-(Al,Ga)2O3 on R-Plane Al2O3
APL Mater. 8(2), 021108:1-14 (2020)

[3] A. Hassa, C. Sturm, M. Kneiß, D. Splith, H. von Wenckstern, T. Schultz, N. Koch, M. Lorenz, M. Grundman 
Solubility Limit and Material Properties of a κ-(AlxGa1−x)2O3 thin film with a lateral cation gradient on (00.1)Al2O3 by tin-assisted PLD,
APL Mater. 8(2), 021103:1-7 (2020)

[4] Holger von Wenckstern, Zhipeng Zhang, Florian Schmidt, Jörg Lenzner, Holger Hochmuth, Marius Grundmann
Continuous composition spread using pulsed-laser deposition with a single, segmented target
CrystEngComm 15, 10020-10027 (2013)

[5] Oliver Lahr, Zhipeng Zhang, Frank Grotjahn, Peter Schlupp, Sofie Vogt, Holger von Wenckstern, Andreas Thiede, Marius Grundmann
Full-swing, High-gain Inverters Based on ZnSnO JFETs and MESFETs
IEEE Transact. Electr. Dev. 66(8), 3376-3381 (2019)

[6] Anna Reinhardt, Holger von Wenckstern, M. Grundmann
Metal-Semiconductor Field-Effect Transistors Based on the Amorphous Multi-Anion Compound ZnON
Adv. Electron. Mater. XXX, 1901066:1-5 (2020), doi:10.1002/aelm.201901066

[7] O. Lahr, S. Vogt, H. von Wenckstern, M. Grundmann
Low-voltage operation of ring oscillators based on room-temperature-deposited amorphous zinc-tin-oxide channel MESFETs
Adv. Electron. Mater. 2019, 1900548:1-5 (2019)

[8] Marius Grundmann, Friedrich-Leonhard Schein, Michael Lorenz, Tammo Böntgen, Jörg Lenzner, Holger von Wenckstern
Cuprous Iodide - a p-type transparent semiconductor: history and novel applications
Phys. Status Solidi A 210(9), 1671-1703 (2013)

[9] Chang Yang, Max Kneiß, Michael Lorenz, Marius Grundmann
Room-temperature Synthesized Copper Iodide Thin Film as Degenerate p-Type Transparent Conducting Material with a Boosted Figure of Merit
PNAS 113(46), 12929-12933 (2016)

[10] C. Yang, D. Souchay, M. Kneiß, M. Bogner, H. M. Wei, M. Lorenz, O. Oeckler, G. Benstetter, Y.Q. Fu, M. Grundmann
Transparent Flexible Thermoelectric Material Based on Non-toxic Earth-Abundant p-Type Copper Iodide Thin Film
Nature Commun. 8, 16076:1-7 (2017)

2019

Prof. Dr. Bernhard Holzapfel

Direktor am Institut für Technische Physik des KIT Karlsruhe

In Würdigung seiner herausragenden Leistungen auf den von der DVG betreuten Wissenschafts- und Technologiebereichen insbesondere für seine bahnbrechenden Beiträge zur Etablierung der Laserdeposition in der Dünnschichttechnik, speziell zur Präparation oxidischer dünner Schichten, insbesondere supraleitender, magnetischer und ferroelektrischer Schichten. 

Die Preisverleihung findet am 09.10.2019, 9.00-10:30 Uhr im Internationalen Congress Centrum (ICD) Dresden während der V2019 statt. Nach der Preisverleihung stellt der neue Preisträger in seinem Preisträgervortrag unter anderem auch die Bedeutung der Vakuumtechnik für seinen wissenschaftlichen Erfolg dar.

Preisträgervortrag:

„Gepulste Laserdeposition von Funktionalschichten: Vom Nanometer zum Kilometer“

2018

Prof. Dr. Günther Tränkle

Ferdinand-Braun-Institut Berlin

In Würdigung seiner herausragenden Leistungen auf den von der DVG betreuten Wissenschafts- und Technologiebereichen insbesondere für seine bahnbrechenden Arbeiten für die III/V Halbleitertechnologie, in der Mikro- und Millimeterwellenelektronik sowie bei Hochleistungs-Diodenlasern

Verleihung während der 17. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit der 20. Arbeitstagung angewandte Oberflächenanalytik AOFA20 am 3. September 2018 in Kaiserslautern

Preisträgervortrag:

Photonik: Schlüsseltechnologie des 21. Jahrhunderts! Nicht ohne Vakuum!

2017

apl. Prof. Armin Dadgar

Universität Magdeburg

In Würdigung seiner bahnbrechenden Arbeiten auf den Gebieten der nitridbasierten elektronischen und photonischen Bauteilen und der Umsetzung in der industriellen Praxis

Verleihung während der 16. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit der Vakuum-, Beschichtung und Plasmaoberflächentechnik V2017 am 24. Oktober 2017 in Dresden

Preisträgervortrag:

Galiumnitrid GaN - von der Forschung zur Anwendung

2016

Prof. Dr. Eicke Weber

Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE in Freiburg und Inhaber des Lehrstuhls für Physik / Solarenergie an der Fakultät für Mathematik und Physik und an der Technischen Fakultät der dortigen Albert-Ludwigs-Universität

In Würdigung seiner Verdienste im Bereich der Materialforschung an Defekten in Silicium und III-V-Halbleitern

Verleihung während der 15. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit der AOFA19 am 7. September 2016 in SOEST

Preisträgervortrag:

Die Solarenergie als Pfeiler unserer künftigen, nachhaltigen Energieversorgung

 

2015

Prof. Dr. Franz Gießibl

Universität Regensburg

In Würdigung seiner bahnbrechenden Arbeiten und Entwicklungen im Bereich der Rastersondenmikroskopie im Vakuum

Verleihung während der 14. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit dem SVST9  in Kolberg, 17.-19. November 2015

Preisträgervortrag:

New frontiers of atomic force microscopy from vacuum to ambient condition

 

2014

Prof. Dr. Wolf-Dieter Schneider

Ecole Polytechnique Fédérale Lausanne EPFL 

In Würdigung seiner Verdienste im Bereich der Oberflächenphysik und -Chemie zu Aufklärung von Transporteigenschaften und elektronischer Strukturen nanoskaliger Systeme mittels Photoemission und Rastersondentechniken.

Verleihung während 13. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit SVST8 und AOFA in Kaiserslautern, 30. September - 2. Oktober 2014

Preisträgervortrag:

Spectroscopic manifestations of low-dimensional physics: A small world

 

2013

Dr. Ute Bergner

Vacom GmbH Jena

In Würdigung ihrer wegweisenden wissenschaftlichen Leistungen sowie herausragende Beispiele für den Transfer wissenschaftlicher Ergebnisse in die technologische Praxis

Verleihung während 12. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit der SVST in Kolobrzeg, 19. November 2013

Preisträgervortrag:

Innovation into emptiness

 

2012

Prof. Dr. Karl Leo

Direktor des Instituts für angewandte Photophysik IAPP der TU-Dresden und Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS

In Würdigung seiner langjährigen und zukunftsweisenden Forschungs- und Entwicklungsarbeiten zu organischen Halbleiterschichten, insbesondere zu deren Anwendung für organische Leuchtdioden (OLEDs) und großflächige organische Solarzellen.

Verleihung während 11. DVG-Jahrestagung (gemeinsam mit JVC-14, EVC-12 und Jahrestagung der Kroatischen Vakuumgesellschaft) in Dubrovnik/Kroatienin, 4.–8. Juni 2012

Preisträgervortrag:

Organics: Lousy Semiconductors for Wonderful Applications

 

2011

Dr. Thomas Berghaus

Leiter Forschung und Entwicklung Omicron Nanatechnologie GmbH, Taunusstein

In Würdigung seiner langjährigen und innovativen Forschungsarbeiten bei der Entwicklung moderner Rastersondentechniken.

Verleihung während 10. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit SVST6 in Kolobrzeg Polen, 20.–22. September 2011

Preisträgervortrag:

Science, Technology Development, and Commerce, the circle of Mutual Benefit. 

 

2010

Prof. Dr. Matthias Scheffler

Direktor des Theoriedepartments des Fritz Haber-Instituts der Max-Plank-Gesellschaft.

In Würdigung seiner international bedeutenden und breit angelegten theoretischen Arbeiten zu den physikalischen und chemischen Eigenschaften von Oberflächen und Interfaces sowie den dort ablaufenden Prozessen, insbesondere der Katalyse.

Verleihung während 9. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit SVST5 und der AOFA in Kaiserslautern 28.–30. September 2010

 

2009

Prof. Dr. Günter Weimann

Direktor des Fraunhofer Instituts für angewandte Festkörper Physik IAF in Freiburg

In Würdigung seiner bahnbrechenden Arbeiten als einer der Pioniere der Molekularstrahlepitaxie MBE sowie der Anwendungen von III-V-Halbleitern

Verleihung während der 8. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit dem SVST vom 21.-23 September 2009 in Koszalin/Kolobrzeg  (Polen)

2008

Dr. Reiner Wechsung

früher Leybold Heraeus LH (Köln) und bis vor kurzem Geschäftsführer der Micro-Parts GmbH (Dortmund)

In Würdigung seiner Arbeiten zu den instrumentellen Entwicklungen auf dem Bereich der Oberflächen und Schichtanalytik sowie seiner Verdienste bei Aufbau der MircoParts GmbH zu einem führenden Unternehmen der Mirksosystemtechnik.

Verleihung während der 8. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit der 10. European Vacuum Conference EVC10 vom 22.-26 September 2008 in Balatonalmadi/Ungarn

2007

Prof. Dr. Alexander Bradshaw

Wissenschaftlicher Direktor des Max-Planck-Instituts für Plasmaphysik in Garching und Greifswald

In Würdigung seiner Seiner bahnbrechenden Arbeiten auf dem Gebiet der Oberflächenphysik .

Verleihung während der 6. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit dem "Symposium on Vacuum Based Science and Technology" vom 5. bis 7. September 2007 in Greifswald

2006

Prof. Hans Lüth

Forschungszentrum Jülich

In Würdigung seiner herausragenden Leistungen auf den von der DVG betreuten Wissenschafts- und Technologiebereichen, insbesondere für seine Arbeiten zu neuartigen nanoskaligen Halbleiterstrukturen.

Verleihung während der 6. DVG-Jahrestagung gemeinsam mit dem "Symposium on Vacuum Based Science and Technology" vom 10. bis 13. Oktober 2006 an der Gesellschaft für Schwerionenforschung (GSI) in Darmstadt